ウシオ電機、極端紫外線（EUV）リソグラフィ向けの検査用光源を出荷開始

あるAnonymous Coward 曰く、

微細なプロセスを使用する次世代半導体では「極端紫外線（EUV）」と呼ばれる非常に短い波長を使用した露光技術が使われる。ウシオ電機は、その次世代半導体の回路の焼き付けに必要なマスクの検査に使われる光源の製造に成功した。量産向けとして初めて検査装置メーカーに7月に納入したという。

ウシオ電機の内藤宏治社長はインタビューで、「今年がEUV元年になる」と語った。同社の光源を搭載した検査装置の採用が進めば「EUV全体の生産効率や歩留まりが上がってくる」と語っている。現在、EUVへの移行はインテル、Samsung、TSMCが計画を進めている（Bloombergその1、Bloombergその2、Slashdot）。