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記事でも触れられてるけど、水面下で原発再稼働が保証されてるとしか思えませんね。それ以外現実的な手段が皆無。
いかに北海道が人が少ないとは言え、半導体工場で何にそんなに電力食うの？？？何トンもある部材を動かすわけでもないし計算パワー使うわけでもないし…クリーンルームを維持するためのファンか、冬場の暖房か？
＃室蘭（？）の製鉄が盛んだった頃は9時の始業開始に合わせて発電容量を切り替えていたとは聞いたことがある
EUV露光機が凄まじい電力を必要とする特にEUV光源が
EUV露光装置は1台で1MWぐらい。1000kW。10台導入したとして1万kWにしかならない。10台も売ってくれないと思うけど。
製造装置だと、時間がかかって装置の台数が多い成膜・熱処理、エッチングの方が消費電力大きいはず。それより液体・気体の循環系、温度管理の方がもっと消費電力大きいだろうけど。
液化したスズをレーザーで蒸発させる(?)とかいう意味不明の超非効率なオランダ製のランプを使ってるらしい加速器でも使った方がまだ省エネwとか言われてるレベルもちろんレンズは全光学面がツァイス特注の第一放物面鏡な
ASML の使用してる EUV 光源はアメリカの Cymer 製です。効率が非常に悪いのはそのとおりですが，いくらなんでも加速器ほどではないです。
一応次世代の光源として、加速器を使った物も検討されてるよ。EUV FEL などで検索してみて。
ここ [ascii.jp]の2ページ目には「最終的にEUV光源装置を開発したTRUMPFの説明によれば仕組みは以下のとおり」と書いてあって、TRUMPFを調べるとドイツの会社で生産拠点はドイツ、フランス、英国、イタリア、オーストリア、スイス、ポーランド、チェコ、米国、メキシコそして中国 [trumpf.com]と書かれているけど。
EUVの波長だと透過率が低すぎて屈折を利用したレンズは使えません。なので凸面鏡と凹面鏡を組み合わせた反射光学系になってます。光源自体の効率も高くないのはそうだけど、もっと問題なのはこの反射光学系の効率。反射を利用しても13.5nmの波長を100%反射できる材料がありません。反射率が70%と低く、10回反射で元の光源の2-3%になってしまい非効率になってます。
省エネいうなら、EB直描が一番いいんじゃないかな。EUVよりも高解像度だし、スループットに目をつむれば最高の性能を得られます。
https://www.techno-producer.com/column/asml-euv-strategy/ [techno-producer.com]https://www.youtube.com/watch?v=skUCP2f4HIM [youtube.com]これか。尋常な代物じゃないなｗ
> 10回反射で元の光源の2-3% はえー。残りの97%～98%は全部熱になるんですかね？光学系がゆがまないように冷却するのって至難の業な印象。
鏡の構造次第じゃね？反射以外の経路だと吸収以外に拡散や透過もある筈。でも最終的には仕事に変換されなかった分はほぼ100%熱でしょ。光や電波を排出しないなら、力学化学なエネルギーに変化してなきゃ大概は熱。
そう。ファシリティの維持にも相当な電力を必要とする。https://www.seaj.or.jp/activity/kankyo/file/Case_JACA01.pdf [seaj.or.jp]
ちなみにTSMCの3nm工場が年間70憶kWh消費するが、80万kWhといったところで、まぁ妥当な線ではないか。https://iphone-mania.jp/news-418567/ [iphone-mania.jp]
この辺が最近の分析。工場一つで年間200億円ぐらいの差でかなり大きい。https://semicon.jeita.or.jp/news/docs/20230515_JEITA-JSIA_teigensyo.pdf [jeita.or.jp]
それよりもっと大きいのが税制の差。最近のTSMC熊本は優遇策があって成り立ったけど、これまでの日本の半導体はこういうハンデ戦で戦ってたんだよね。本当は差があるなら関税で輸入に制限掛ける必要があるのだけど、日本はどんなハンデがあっても輸入側完全フリー。
> 日本はどんなハンデがあっても輸入側完全フリー
輸入関税を撤廃してからもアメリカはもっと買えと文句を言っていた
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私はプログラマです。1040 formに私の職業としてそう書いています -- Ken Thompson
道内で使用する電力の1~2割 ！！ (スコア:0)
記事でも触れられてるけど、水面下で原発再稼働が保証されてるとしか思えませんね。
それ以外現実的な手段が皆無。
Re:道内で使用する電力の1~2割 ！！ (スコア:0)
いかに北海道が人が少ないとは言え、半導体工場で何にそんなに電力食うの？？？
何トンもある部材を動かすわけでもないし計算パワー使うわけでもないし…
クリーンルームを維持するためのファンか、冬場の暖房か？
＃室蘭（？）の製鉄が盛んだった頃は9時の始業開始に合わせて発電容量を切り替えていたとは聞いたことがある
Re: (スコア:0)
EUV露光機が凄まじい電力を必要とする
特にEUV光源が
Re:道内で使用する電力の1~2割 ！！ (スコア:1)
EUV露光装置は1台で1MWぐらい。1000kW。
10台導入したとして1万kWにしかならない。10台も売ってくれないと思うけど。
製造装置だと、時間がかかって装置の台数が多い成膜・熱処理、エッチングの方が消費電力大きいはず。
それより液体・気体の循環系、温度管理の方がもっと消費電力大きいだろうけど。
Re: (スコア:0)
液化したスズをレーザーで蒸発させる(?)とかいう意味不明の超非効率なオランダ製のランプを使ってるらしい
加速器でも使った方がまだ省エネwとか言われてるレベル
もちろんレンズは全光学面がツァイス特注の第一放物面鏡な
Re: (スコア:0)
ASML の使用してる EUV 光源はアメリカの Cymer 製です。
効率が非常に悪いのはそのとおりですが，いくらなんでも加速器ほどではないです。
Re: (スコア:0)
一応次世代の光源として、加速器を使った物も検討されてるよ。
EUV FEL などで検索してみて。
Re: (スコア:0)
ここ [ascii.jp]の2ページ目には「最終的にEUV光源装置を開発したTRUMPFの説明によれば仕組みは以下のとおり」と書いてあって、TRUMPFを調べるとドイツの会社で生産拠点はドイツ、フランス、英国、イタリア、オーストリア、スイス、ポーランド、チェコ、米国、メキシコそして中国 [trumpf.com]と書かれているけど。
Re: (スコア:0)
EUVの波長だと透過率が低すぎて屈折を利用したレンズは使えません。
なので凸面鏡と凹面鏡を組み合わせた反射光学系になってます。
光源自体の効率も高くないのはそうだけど、もっと問題なのはこの反射光学系の効率。
反射を利用しても13.5nmの波長を100%反射できる材料がありません。
反射率が70%と低く、10回反射で元の光源の2-3%になってしまい非効率になってます。
省エネいうなら、EB直描が一番いいんじゃないかな。
EUVよりも高解像度だし、スループットに目をつむれば最高の性能を得られます。
Re:道内で使用する電力の1~2割 ！！ (スコア:1)
https://www.techno-producer.com/column/asml-euv-strategy/ [techno-producer.com]
https://www.youtube.com/watch?v=skUCP2f4HIM [youtube.com]
これか。尋常な代物じゃないなｗ
Re: (スコア:0)
> 10回反射で元の光源の2-3%
はえー。残りの97%～98%は全部熱になるんですかね？
光学系がゆがまないように冷却するのって至難の業な印象。
Re: (スコア:0)
鏡の構造次第じゃね？
反射以外の経路だと吸収以外に拡散や透過もある筈。
でも最終的には仕事に変換されなかった分はほぼ100%熱でしょ。
光や電波を排出しないなら、力学化学なエネルギーに変化してなきゃ大概は熱。
Re: (スコア:0)
そう。ファシリティの維持にも相当な電力を必要とする。
https://www.seaj.or.jp/activity/kankyo/file/Case_JACA01.pdf [seaj.or.jp]
ちなみにTSMCの3nm工場が年間70憶kWh消費するが、80万kWhといったところで、まぁ妥当な線ではないか。
https://iphone-mania.jp/news-418567/ [iphone-mania.jp]
Re: (スコア:0)
この辺が最近の分析。
工場一つで年間200億円ぐらいの差でかなり大きい。
https://semicon.jeita.or.jp/news/docs/20230515_JEITA-JSIA_teigensyo.pdf [jeita.or.jp]
それよりもっと大きいのが税制の差。
最近のTSMC熊本は優遇策があって成り立ったけど、これまでの日本の半導体はこういうハンデ戦で戦ってたんだよね。
本当は差があるなら関税で輸入に制限掛ける必要があるのだけど、日本はどんなハンデがあっても輸入側完全フリー。
Re: (スコア:0)
> 日本はどんなハンデがあっても輸入側完全フリー
輸入関税を撤廃してからもアメリカはもっと買えと文句を言っていた