キヤノン、14nmのパターンを形成できる半導体製造装置を発売 45
ストーリー by nagazou
タンポ印刷に回帰 部門より
タンポ印刷に回帰 部門より
キヤノンは13日、ナノインプリントリソグラフィ技術を使用した半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を発売したと発表した。この装置は、ナノインプリントリソグラフィ（NIL）技術を採用、シンプルな仕組みで微細な回路パターンを形成できるという特色を持っている（キヤノン）。
従来の露光技術では、ウエハー上に塗布されたレジスト（樹脂）に光を照射し回路を焼き付けるが、新製品では、マスクをウエハー上のレジスト（樹脂）に印鑑のように直接押し付け、マスクに刻まれた回路パターンを正確に転写する方式を採用した。従来の方法と異なり、光学系の介在物がないため、微細な回路パターンを正確に再現できる。具体的には、最先端ロジック半導体製造レベルの5ナノノードに相当する最小線幅14nmのパターン形成ができるという。
従来の露光技術では、ウエハー上に塗布されたレジスト（樹脂）に光を照射し回路を焼き付けるが、新製品では、マスクをウエハー上のレジスト（樹脂）に印鑑のように直接押し付け、マスクに刻まれた回路パターンを正確に転写する方式を採用した。従来の方法と異なり、光学系の介在物がないため、微細な回路パターンを正確に再現できる。具体的には、最先端ロジック半導体製造レベルの5ナノノードに相当する最小線幅14nmのパターン形成ができるという。
NIL技術の説明 (スコア:1)
NIL技術をググった
https://global.canon/ja/technology/nil-2023.html [global.canon]
https://global.canon/ja/technology/interview/nanoimprint/index.html [global.canon]
Re:NIL技術の説明 (スコア:1)
こいつは比較的単純な繰り返しパターンに向いていて、任意の形状を14nmで作れるわけではないです。
具体的にはDRAMやNANDフラッシュなどのメモリ向け。
露光機とセットのコーデベ (スコア:1)
コーターデベロッパ装置も要らなくなるってこと？
これが主流になったらTELやSCREENは涙目だな
Re: (スコア:0)
コレも露光は依然必要っしょ？
光学系ってのが何を指して言ってるのか知らんけど
Re:露光機とセットのコーデベ (スコア:1)
従来のLSI製造方法は、ざっくり言えば「ウェハー上に形成したい物質をべったりと塗る」→「その上の感光性のレジスト素材をべったり塗る」→「マスクを通して露光すると、レジストがマスクの形に残る」→「エッチングすると、レジストがあるとこは削れないから、マスクの形に形成したい物質が残る」
って原理なのに対して、今回のNILは
「ウェハー上に形成したい物質をべったりと塗る」→「直接パターンの形に表面にレジストを印刷」→「UV照射でレジストを固める」→「エッチングすると、レジストがあるとこは削れないから、マスクの形に形成したい物質が残る」
って流れですね。
「UV照射でレジストを固める」のは、処理としては「露光」ですけど、
元コメの言う「露光機」(マスクを通してパターン通りにUV照射する機械)は不要でしょ。
Wordで (スコア:0)
フォントサイズを100nmくらいにして作った文書をこの機械で印刷できないかな
Re: (スコア:0)
ビットマップフォントですか？
漢字は難しい思います、アルファベットくらいですね。
ナムコのビットマップフォントでも表示しましょうかね
https://cgworld.jp/article/monotype_a5.jpg [cgworld.jp]
Re: (スコア:0)
ナムコのビットマップフォントでも表示しましょうかね
https://cgworld.jp/article/monotype_a5.jpg [cgworld.jp]
「アタリフォント」とありますが?
Re:Wordで (スコア:1)
元コメが言いたいのはこっち [cgworld.jp]でしょうね。ゼビウス用にデザインされたやつですけど、その後のナムコゲームにいろいろ使われてたので「ナムコフォント」と言われたらこれをイメージします。
ASMLに勝てるかな (スコア:0)
露光装置はASML一強なわけで、EUVから駆逐されたキヤノンが10年以かけて開発した最後の一手がNILだけど…
ASMLが現在の地位を手に入れたのは、自社技術が優れていることのほかに、顧客企業との濃密なコミニュケーションや自前主義にこだわらない柔軟な姿勢が各種報道（コレ [gendai.media]やコレ [diamond.jp]やコレ [itmedia.co.jp]）で言われてるけど、キヤノンは昔日の殿様商売から脱却できるかな。
とりあえず
光の露光装置とは条件出しやセットアップが異なり、工夫が必要。使い勝手の向上が課題になっている
と専務執行役員も言っている [newswitch.jp]ので、大手顧客への食い込みをどうやるのかが当面の課題。
Re:ASMLに勝てるかな (スコア:2)
基礎研究は米国が圧倒的
日本は半導体で一時期天下を取ったが
「日本が半導体を供給しなければ米国はミサイルを飛ばすことが出来ない」
などとアホなことを言った政治家がいたりして、日本は米国に警戒されてしまった
米国は日本を外し、比較的中立なオランダ、韓国、台湾を支援した
ASMLには米国でEUVシステムの研究をしていたローレンス・リバモア研究所や
サンディア国立研究所にアクセスすることを認めた
資金、人材育成も支援した
日本メーカーは米国の助けがなく独自開発するしかなかった
最近、米国が日本のRapidusを後押しているのは
日本が米国に歯向かう力がなくなったと評価したから
Re: (スコア:0)
ラピダスは日本政府が金を出すなら勝手にやってくれという話でしかなく、
アメリカ政府が後押しして〜というような構図ではない
Re: (スコア:0)
こういう物語構文って信憑性が全然感じられないのです
いろいろ事実も含まれてるのでしょうがそれらの繋がりが不鮮明なので
言いたいことを伝える際にはもう少し工夫をお願いします
Re: (スコア:0)
事実も含まれてるかもと思うならゼロイチでそんなんダメ―！じゃなくて、断片情報とっかかりに自分で色々調べたらいいじゃん。
そうでなきゃ深呼吸して、ストーリーをイーロン・マスクwithハリウッドアクションに置換妄想でもしてマターリなされ。
新製品では、マスクをウエハー上のレジスト（樹脂）に印鑑のように直接押し付け、マスクに刻まれた回路パターンを正確に転写する方式を採用した。
Re: (スコア:0)
敗戦国で自国防衛すら米軍に一部頼る前提の米国の犬風情を相手に中立を選ぶ云々は説得力ねぇな。
単に貿易摩擦やらなんやら経済的な力関係でプライド刺激されたってだけで、
軍事的政治的な立ち位置は徹頭徹尾米国の犬でしょ。
緩くなったのは現地法人で生産したり貿易摩擦を意識した立ち回りでやっぱ犬だって認識になったか
米国単体の工業力の凋落というか国際化を自覚してきたからじゃないかね。
全部内製するのが無理なのは明らかになったし、日本は所詮犬だし。
Re: (スコア:0)
開発の初期段階に VNL と EUV LLC を通じて協業できたのも ASML の成功の一因ではあるが，この時点では
まだ EUV に懐疑的な人の方が多かった。一方，EUV 関係の国プロをいくつも用意してもらったにもかかわらず，
いつまでも様子見程度の投資しかせず，ASML がプロトタイプ EUV 露光機を完成した後に EUV は技術的に
不可能であると断言して撤退した二社と比較すると，企業として本質的に圧倒的な実力の差があると言わざるを得ない。
Re:ASMRに勝てるかな (スコア:1)
Re: (スコア:0)
先に言われたのが悔しいので、ここから下はnekopon氏所有のASMRタイトルを透視するツリーです：
Re: (スコア:0)
最後の一手ではないのでは？
Re: (スコア:0)
キヤノンは敵を作りすぎた
グループ会社（というか主にそっち）を含めて一度精算しないと
辛酸舐めさせていた相手が転職して上にいたりする時代だ
最初は研究・試作用でしょう (スコア:0)
半導体製造大手は、研究・試作用に少数購入して様子を見るでしょう
いきなり量産ライン作る会社はないでしょうね
Re: (スコア:0)
キオクシアと組んで開発してたので
ある程度は研究､試作は終わってるっぽいけどね
これ使って量産の計画があるみたいだし
考えてるよりは使われるのが早いと思うぞ
Re: (スコア:0)
いま現在大赤字で会社統合待ったなし、新設の工場も完成したものの稼働は延期中というキオクシアが本格導入できるのはいつになるのやら
Re: (スコア:0)
キオクシアはWDと統合したんじゃなかったっけ？
Re: (スコア:0)
もう研究・試作の段階は過ぎて量産に向けた導入が始まるところだと思います。
キオクシアは2017年に試作機を導入して、キヤノンと量産に向けた研究開を続けていました。そこで洗い出した問題の解決に目処がついて、量産に耐えうるところまできたから製品化したのでしょう。
また、Hynixも量産に導入する事を決定して試作機でテスト中との報道もあります。
お幾らかな (スコア:0)
5nmプロセスだとEUV露光がMustで、EUV露光機が$1=￥120時代に1台300億円程度でそれからドル建ての価格はほぼ変わっていないようなので、それよりは安いでしょうね。
あと、素人考えだと時間当たり処理数もジンワリ露光のEUV露光機よりは多そうに思います。
ダブルパターニングやらクワッドパターニングをせずに5nm相当の配線幅が実現できて時間当たりの処理数もArF程度かそれ以上にできるなら、予定にある今後の微細化対応がEUVより遅くても今更という事はなく売れると思われます。
もちろん製品化までに何か別のブレイクスルーが無ければですが、今の所はそんな話は無い模様。
なんとなくCDを原盤からプレスしていく工程を想像しました。
Re: (スコア:0)
EUVの露光装置と比べて約10分の1の消費電力で済むのはなかなか。
建設中のラピダスの半導体工場、利用電力は60万キロワット
https://hardware.srad.jp/story/23/10/05/1419210/ [hardware.srad.jp]
DNPのCMで見た (スコア:0)
テレ東のWBSの枠でやってるDNPのCMでこんな話が出てたけど
Canonのオリジナル技術ではなく、DNPも噛んでたりするのかな？
リリースにはDNPなんて一文字も出て来てないから全くの独自開発だろうか。
Re:DNPのCMで見た (スコア:4, 参考になる)
たぶん、これの続きだと思うのですが。
https://www.dnp.co.jp/news/detail/10162455_1587.html [dnp.co.jp]
2022年5月10日
大日本印刷、キヤノン、キオクシアの３社共同の「NILによる超微細半導体の省エネルギー加工技術」が「第49回 環境賞」を受賞
Re: (スコア:0)
ありがとうございます。
DNP、キオクシアとの共同研究だったのですね。
Re:DNPのCMで見た (スコア:2)
CANONは2014年にその会社を買収した
基礎技術を米国抜きで開発するなどということはあり得ない
Re: (スコア:0)
なんかキヤノンより大日本印刷が得意そうな感じがする技術だよなｗ
Re: (スコア:0)
大日本印刷「こまかい印刷を実現したわ」←わかる
キヤノン「光学系を不要にしたわ」←えっ？
Re: (スコア:0)
インクジェットプリンタの系譜の技術なので、そんなに違和感ない。
タイトルがおかしい (スコア:0)
タイトルがおかしい
「キヤノン、14nmのパターンを形成できる半導体製造装置を発売」だと、どこにニュースとしての価値があるのか良く分からない
「キヤノン、14nm半導体のパターンを形成できるナノインプリント装置を発売」ぐらいが適切
＃メーカーにとってはインプリントの親型の製造装置や検査装置、洗浄装置等も収益源
Re: (スコア:0)
> どこにニュースとしての価値があるのか良く分からない
どんなタイトルに対しても使えそうな万能フレーズですね。
Re: (スコア:0)
アプローチが従来型と大きく違うのもニュースだけど
キヤノンがこのサイズの微細化に食らいついている事自体ニュースじゃねーの。
欠陥率とEDAツールの対応が肝？ (スコア:0)
ナノインプリントはパーティクルや離型不良による欠陥率の高さが課題って聞いたけど、どこまで改善されたんだろうね。
欠陥率が高いから冗長性のあるNANDメモリ向き(不良セルがあってもコントローラで無効化すればよい)ってことだったけど、ロジック向けを謳ってるからにはかなり改善したのかな。
装置だけじゃなくて、EDAツールもナノインプリントプロセス向けにカスタマイズとか要るんじゃないかなあ。
何にせよ夢があって良いので今後に期待。
Re:欠陥率とEDAツールの対応が肝？ (スコア:1)
Re:線幅がこれの１０分の１レベルじゃないと (スコア:2)
本当？ ノード名と線幅の乖離が問題となってずいぶん経ちますが、TSMC、Intel、サムスンあたりの線幅はどれだけなのかな？
それにロジックデバイスだけが半導体ではありません。メモリだとかフラッシュだとか半導体にもいろいろありますし。
Re: (スコア:0)
バブルジェットプリンタから分子ジェットプリンタになりそうだな。
分子1個からジェットできます!
Re: (スコア:0)
干渉像とかできちゃいそう
Re:線幅がこれの１０分の１レベルじゃないと (スコア:1)
Re: (スコア:0)
無知だけどただケチをつけて、偉くなった気持ちになるだけなら5chの住人とかわらない
なぜそう思うのか説明しないとね