中国半導体大手「SMIC」が7nmチップ生産が可能に。米規制すり抜け 51
ストーリー by nagazou
いつのまに 部門より
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中国の半導体メーカー中芯国際集成電路製造（SMIC）が、7nmプロセスを利用して製品提供をおこなっていることが分かったという。ファブレスIC設計会社の加MinerVa Semiconductorが、SMICに製造委託したSoCをリバースエンジニアリングしたところ、7nmプロセスが採用していたことが判明したとしている。このチップは2021年7月から出荷されているとのこと（Dylan Patel、Tom's Hardware、GIGAZINE、TECH+、Bloomberg）。
中国企業に対しては、米商務省が14nm以上の技術に利用可能な機器の輸出を制限している。そうした最先端半導体製造装置が利用できないにもかかわらず、7nmプロセスを使用したSoCの製造に成功したことになる。現在のSMICの生産規模は、GlobalFoundriesを上回るとされ、TSMC、Samsungに次ぐ3位に相当するとみられているという。
中国企業に対しては、米商務省が14nm以上の技術に利用可能な機器の輸出を制限している。そうした最先端半導体製造装置が利用できないにもかかわらず、7nmプロセスを使用したSoCの製造に成功したことになる。現在のSMICの生産規模は、GlobalFoundriesを上回るとされ、TSMC、Samsungに次ぐ3位に相当するとみられているという。
EUVが使えないから5nmは期待薄 (スコア:0)
液浸で5nmはどこも実現できてないので
残念無念
Re:EUVが使えないから5nmは期待薄 (スコア:2, 参考になる)
FinFETの14nm実現出来た時点で、時間かければ7nm相当まで行けるのは分かってたよね。
記事でも書かれてる通り7nmまでは製造装置ほとんど同じなので。
ただしEUV無しではトリプルパターニングが必要で、コストがかかって性能も歩留まりも悪い。
一方TSMCは既に最下層にEUVを使うN7+やN6に切り替えて、性能向上とコスト削減してる。
5nm以降はEUV必須で無理なのもそうだけど、7nm世代でも競争力という点では厳しそう。
Re: (スコア:0)
技術のツリーに技術で返せないのは残念。
例えば国産EUV開発とか、他にも出てるようにEB直描での量産実用化とか、そういうネタでもないの？
Re: (スコア:0)
別に、量産性やコストを無視すればEUV無しでも作れるでしょう。
EBとか。
米規制すり抜け (スコア:0)
すり抜けなの？
規制をすり抜けたのではなく、自力で実現したみたいなんだけど。
Re: (スコア:0)
アメリカの規制は中国の半導体開発禁止を狙ったものですよ。
Re: (スコア:0)
欧米技術を使っての開発製造禁止だから、内政干渉じゃないですよ
Re: (スコア:0)
アメリカがオランダに対して、製造装置を中国に売るな、というのはグレーよりな内政干渉の気がする。
一応、アメリカ由来の技術が25％だか含まれているから、という理屈らしいが、そこをオランダが自前の技術に置き換えたとしても、何かしらの文句を言うだろうと思う。
Re: (スコア:0)
こうした製品は輸出管理製品で他国への輸出に関しては制限されるのは国際的には当たり前なんだよ。
オランダも国際輸出管理レジームに参加していて、こうした輸出管理品をオランダへ輸入できるメリットがあるんだよ。
だから輸出不可の処理に対して何も問題は無い。グレー寄りの内政干渉でもなんでもないよ。
Re: (スコア:0)
必要は発明の母ってやつかしら
Re: (スコア:0)
とりあえず日本の設備ベンタ抜きで実現できるものなの？＞7nmプロセス
ホントに設備ベンダ抜きで中国国内でライン立ち上げられるのなら、無敵モードに思えるんだけど。
Re: (スコア:0)
現実にものがあるならやっぱりできると考えるのが普通じゃないか。
仮に自力でできても発表なんかしないだろ。できないと思われてる方が中国にとって得だから。
Re: (スコア:0)
うーん、どんだけ日本人技術者（or 学者）引っこ抜いてったんだ？
まあ普通に中国人留学生が就職して技術習得して帰る、ってのもありそうだけど。
Re: (スコア:0)
今引き抜いてるのは日本人じゃなく、TSMCの技術者だよ。経営陣も元TSMC。
Re: (スコア:0)
需給(シェア)では日本の製造装置はまだ重要だけど(主に東エレ)、
無いと半導体が作れないなんて時代はもうとっくの昔に終わっとるな。
Re: (スコア:0)
おっと、日本の悪口はそこまでだ！
事実でも（事実だから？）マイナスデモされちゃうぞ。
Re: (スコア:0)
その日本sageはあまりに現実を知らなさすぎるな
純真すぎてマスゴミに騙されてる日本人なのか、5毛のために頑張ってるのか知らないが事実を見るべきだよ
実際TSMCの2ナノ半導体は日本の技術協力なかりせば実現できないものなんだから
Re: (スコア:0)
Q. 日本の装置って存在感あるの?
A. 日本の協力がなければ実現できないんだぞ
すり替えちゃったってことはお前の認識としてはダメ判定なんじゃね?
Re: (スコア:0)
日本の装置はほぼ存在感はありません。
日本の材料は世界でも有数のシェアを持っています。
これをどういった単語で修飾するかで上げ下げが別れます。
Re: (スコア:0)
知識よりも人としての心がないんじゃないかな
日本ageをやりたいがために事実を歪めるから目玉腐ってんぞと言われて巻ける
Re: (スコア:0)
まあどっちにしてもぐたいてきなすうじだしゃいいわけで
Re: (スコア:0)
> その日本sageはあまりに現実を知らなさすぎるな
それは失礼しました。参考になるソースを教えてください。
自分で調べたけど、こんなの↓出てきて、やっぱりじり貧かと思ったので。
https://biz-journal.jp/2022/06/post_304250_3.html [biz-journal.jp]
Re: (スコア:0)
金額が大きくて美味しいところはほとんど海外勢に大きなシェアを取られちゃってますけど、存在感が無いと言われるほど少なくは無いかなぁ。
https://xtech.nikkei.com/atcl/nxt/column/18/00138/071501087/ [nikkei.com]
Re: (スコア:0)
日本は世界2位、実質米国と日本で寡占、露光機だけオランダ（ASML）ってのが半導体製造装置の市場。
100歩譲って米国が日本の存在感無いって言うなら分かるけど、中国の話題でそんなこと言っても無知晒すだけですね。
Re: (スコア:0)
プライム市場に上場しているような企業群だと半導体市場ヤバッとなってるところってない気がする。
まあ増え方が足りないっちゃ足りないんだけど（ってか年初から株価下げ過ぎっしょ）。
Re: (スコア:0)
日本age書き込みはソースは出さないけど、ソース出した日本sage書き込みは
マイナスモデで見なかったことにするってのはちょとどうなの。
Re: (スコア:0)
鶏と卵になっちゃうかもだけど、半導体メーカーの中にいた感覚では、露光装置でCanonが脱落して検査装置でKLAなしでやっていけなくなった90nmの2006年頃には、日本の半導体製造装置メーカーに先がないと感じていて半導体メーカーは投資を絞り始めていた。
投資を絞ったために、65/55nmや45/40nmの立ち上げに出遅れて、半導体製品の競争力がなくなってシェアが低下していった。
経営的には円高とかリーマンショックとかもあるかもだけど、それは半導体業界に限った話じゃないしあまり重要じゃない。
Re:米規制すり抜け (スコア:1)
日本は先端半導体ファブを作っても、それを生かした高付加価値製品の生産ができず、
1～2世代遅れの台湾・韓国の低コスト生産体制に対抗できなかった
ほとんどの顧客からすれば、1～2世代遅れでも、ビットコスト・トランジスタコストが低けりゃべつにかまわないって感じで
Re: (スコア:0)
日本はいつも「高付加価値製品を少数売って大儲け」に賭けすぎるんだよ
高マージンなのは安物の大量生産だったというオチ
Re:米規制すり抜け (スコア:1)
#4297161です。
製造の投資を絞ったからコストと物量で戦うことができず、高付加価値に勝機を見出すしかなかった。
だが、開発の投資を絞って外部からのIPの導入などした結果、差別化や高付加価値を生み出せなくなった。
半導体で上げた収益を半導体に投資せず、絞るだけ絞って電機メーカーから切り離した結果、投資力を失った。
勝負の土俵に乗るために必要な投資ができなくなった結果だと思う。
今ならTSMCやsamsungやIntel並みの年間十兆円が最低ラインで、15年遅れを取り戻すにはその2倍を投資しないと、あと15年では追いつけない。
米欧韓はそれぐらいの額を国として支出しようとしているし、TSMC熊本工場の五千億円ぐらいじゃ焼け石に水。
仮に、米欧韓並みの三百兆円の資金を日本政府が無償援助したとしても、その投資を消化するだけの技術や人材の力が日本の半導体業界には、既に無い。
同額を、他への投資や、必要な半導体の購入に充てたほうが、ましだと思う。
Re:米規制すり抜け (スコア:1)
この辺は農業も同じだよね
たくさん作れないから高品質高価格だ！
→誰も買わなく（買えなく）なる
→なら外国の富裕層をターゲットだ！
→珍しさ以上の価値が無いので最初だけ
消費者が本当に必要なのは安く安定して買えるモノ
Re: (スコア:0)
日本がコストで戦えなかったのは、ニコンを選んだせいもあると思うよ
当時、微細化ではニコンが進んでたが、生産コスト・生産効率ではASMLが進んでた
自前で高付加価値の半導体を作るインテルはニコンでもやっていけたが、
汎用品が主力の日本勢は、ニコンではASMLを使う韓台勢に対抗できなかった
Re: (スコア:0)
Nikonがツインスキャン技術の露光装置を出さなかったせい、というのはあると思う。ただ、ASMLに変更できたかといえば、そうは思わない。
ASMLのツインスキャンは、スループットは高いが導入コストもお高いし、大きいしカスタマイズできないしで工場の建物ごと立て直す必要がある。
新規に工場を建てる台韓と違い、とてもじゃないが日本の半導体メーカーには、そんな投資をできるだけの力がなかった。
Re: (スコア:0)
汎用品に活路を見いだしたかったが、未来を背負って立てるほど商品開発力がなかったのが日本でしょう。
DRAMから脱落した90年代以降、半導体を支えていたのは家電メーカーなどから受注したASICで、
その家電メーカーがジリ貧になると半導体も一緒に沈没したというところ。
ASSPはときどきヒット商品があってもすぐに時代遅れになって後が続かなかった。
TSMCのようにfabに徹っすることができればまた違ったかもしれなかったけど、各社とも基本的に自分のところで
設計したものを作るために持っていた工場だからね。
Re: (スコア:0)
安物の大量生産って奴には、前世代の最新開発費の回収って面があって、
結局は最新プロセス開発サイクルに参加していないとそこも付いていけなくなるんですよ。
7nmプロセス (スコア:0)
プロセスルールが何を指すのか曖昧になって久しく
リバースエンジニアリングで何を根拠に「7nmプロセス」と断定したのか訳分からなかったのだが、
TSMCの7nmプロセスに似ている(コピー？)から7nmプロセスということでいいのかな？
Re:7nmプロセス (スコア:3, 興味深い)
昔はトランジスタのゲート長が直接プロセスルールを表してた。
180nmのプロセスなら、最小ゲート長が180nmだった。
少し前までは配線の最小ピッチに比例してた。
ぴったり一致しないけど、最小ピッチが90nmの1/2になったら45nmと呼ぶと言った具合。
今はプロセスルールは標準ロジックライブラリのトランジスタ密度で表してる。
ベンチマークはTSMCで、TSMCの7nmと同じ密度に近ければ7nmと呼ぶ方向。
Intelもこれに合わせて、自社でかつて10nmと呼んでたものをTSMCに合わせてIntel7に改めた。
今回もトランジスタ密度を測って、7nm相当と判定したんじゃないかな。
Re: (スコア:0)
SMICの従来プロセスと明らかに違うんじゃね?
家紋の形が
Re: (スコア:0)
未だにインテルのCPUって嶋家の家紋彫ってるの？
Re: (スコア:0)
そんなの8080だけでしょ
Re: (スコア:0)
そのとうりで、モデルナンバー化していてどこのサイズが7nmなのか誰も分からないという不思議
Re: (スコア:0)
たうり
Re: (スコア:0)
情報元の記事によると、TSMC, Intel, Samsungの最新の2世代前相当ってことらしい
Re: (スコア:0)
いまのプロセスルールの基準はTSMC
インテルはTSMCに合わせたし、他社も同様
Re: (スコア:0)
Intel20Aとか18Aとかつけたのは、この辺でTSMCを巻き返すって意気込みからですよね！