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TSMC、日本への半導体工場の建設を正式発表」記事へのコメント

  • by Anonymous Coward

    > TSMCが日本で計画しているのは、回路幅が22~28ナノメートル(1ナノメートル=1ミリの100万分の1)の前世代型のものだ。(朝日新聞)

    製造装置は日本製を優先的に入れるんだろうか。
    ニコンとか

    • by Anonymous Coward

      なんで今更古いの立てるんだろ。
      実稼働までの立ち上げ時間重視で手慣れてるプロセス使うんかな。
      不足してる半導体、先端プロセスである必要が無いのばっかだしな…。

      まぁ機材が安いってのもあるんだろうけど。ニコン使えそうだし。
      ニコンは一息つけるかな…?

      • Re:補足 (スコア:3, 興味深い)

        by Anonymous Coward on 2021年10月15日 13時31分 (#4132756)

        TSMCが海外に工場を建てるには政府の許可が必要らしいですからね。特に最先端のプロセスは基本的に台湾外に持ち出せないって聞いた事もありますから、先端プロセスを必要とする顧客がほとんどいないと思われる日本にその様な工場を作る必然性もないですからね(必要なら、台湾と距離も近いので、台湾で作ればいいだろうし)。

        米国に5nmのFABを作る計画があるのは、既に台湾で2nmプロセスを用いたFAB建設の環境アセスメントを完了し、同ファブの建設が許可されたらしいですから、米国に5nmのFABが出来る頃には、5nmは最先端のプロセスでなくなっている目処がついているからでしょうね。それと、政治的なものと、5nmプロセスを必要とする顧客がいること、少なくともこの3つがあるから許可が出るんでしょうね。
        台湾政府がTSMCの2nmファブ建設を許可、2024年にも量産開始の可能性 [mynavi.jp]

        ニコンの露光機については、最小解像度が38nmみたいですから、露光機については難しいんじゃないですかね。
        https://www.ave.nikon.co.jp/semi/lineup/ [nikon.co.jp]

        それと、南京にFABを作った時も、台湾にある既存の工場から設備を一部移設したらしいですから、別コメにあるように今回も同じようにするかもしれませんね(その代わりに台湾のFABの設備を新しい物にして、より付加価値の高いものを製造できるようにする)。
        TSMC、中国 南京に半導体製造工場を建設 [itmedia.co.jp]

        # 「らしい」を多用しているので、そこを突っ込まれるんだろうな。

        親コメント

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