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空気に向かい合った金属というと、そういうのを想像してしまいます。微細化して、低電圧でも制御ができるようになったということかなぁ。電極の劣化が気になります....
私も真空管を思い浮かべたのですが、電子を飛ばす距離が「大気中の平均自由行程以下」ってことは「電子が大気の分子にぶつかることはないんだから、わざわざ真空にしなくても真空管と同じような動作になる」って原理かな、と。
まぁそんなことしないでも、今のCMOSプロセスは配線間の絶縁に真空(減圧)を導入することもできる時代ですので。どうせ製造中は真空プロセスなんだし、コンタミが増える変な気体を導入する必要はないと思う。
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ソースを見ろ -- ある4桁UID
真空管? (スコア:1)
空気に向かい合った金属というと、そういうのを想像してしまいます。
微細化して、低電圧でも制御ができるようになったということかなぁ。
電極の劣化が気になります....
Re: (スコア:1)
私も真空管を思い浮かべたのですが、
電子を飛ばす距離が「大気中の平均自由行程以下」ってことは
「電子が大気の分子にぶつかることはないんだから、わざわざ真空にしなくても真空管と同じような動作になる」
って原理かな、と。
Re:真空管? (スコア:0)
まぁそんなことしないでも、今のCMOSプロセスは配線間の絶縁に真空(減圧)を導入することもできる時代ですので。
どうせ製造中は真空プロセスなんだし、コンタミが増える変な気体を導入する必要はないと思う。